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双光子无掩膜光刻系统生产商_口碑好的双光子无掩膜光刻系统微纳米3D打印机_纳糯三维科技(上海)有限公司Nanoscribe

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发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
所在地: 上海
有效期至: 2031-11-30
最后更新: 2021-11-30 10:27
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公司基本资料信息
 
 
产品详细说明

  Reshapingoutput。QuantumXshape双光子无掩膜光刻系统不仅是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具,同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具.Reshapingusability。通过系统集成触控屏控制打印文件来大大提高实用性!通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置,实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产。

  产品特点*作为同类中超前的3D打印系统Nanoscribe的全新QuantumXshape系统可打印任何形状,min尺寸可达100nm同时表面粗造度(Ra)小于5nm,max面积可达25cm*具备自动滴胶模组功能的先进打印系统,过夜效率可达200个特征结构。*通用高性能双光子聚合材料,适用高分子及玻璃打印。经行业验证的gao效软件应用于晶圆级3D微纳加工如何从你的3D设计到最终的3D打印结构?使用Nanoscribe的软件,你能快速实现成功的打印过程.

  作为已被工业界认可的Nanoscribe公司推出的QuantumX平台的二代加工系统,QuantumXshape双光子无掩膜光刻系统在3D微纳加工领域拥有惊人的高精度,比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL)!全新的QuantumXshape的高精度有赖于其高能力的体素调制比和超精细处理网格,从而实现亚体素的尺寸控制!此外,受益于双光子灰度光刻对体素的微调,该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑,同时保持高精度的形状控制!

  实验室或多用户的机构中具有高打印质量及产量要求的3D微纳加工系统,可应用于:生命科学,材料工程,微流道,微纳力学及MEMS,折射微光学,衍射为光学,集成光子学等为专家科研及工业人才设计,可解锁以下微纳加工课题中全部潜力的设备:快速原型制作批量,小系列生产晶圆级微纳加工等标准参数表面粗糙度(Ra)≤5nmMin特征尺寸1100nm形状准确度≤200nm批量生产200个标准结构的通宵产量自动聚焦精度≤30nm写场直径25mm/透镜放大倍数Max扫描速度25m/s/透镜放大倍数系统基本特征打印技术:基于双光子聚合的逐层3D打印,具有体素调节能力的双光子灰度光刻基片:显微镜载片(3x1”/76x26mm)/硅片,1”(24mm)到6”(150mm)/玻璃、硅及其他不透明材料光刻胶NanoscribeIP胶(聚合物打印)/NanoscribeGP-Silica胶(玻璃打印)/兼容第三方及各类自主材料Max打印面积50x50mm²Reshapingprecision!

  生成,上传,打印,在触控屏上或从办公室电脑上远程监控打印过程Nanoscribe客户遍布30个国家,超过1500名用户.众多排名高校中已经多所正在使用Nanoscribe3D打印系统.这些大学包含哈佛大学、加州理工学院、牛津大学、伦敦帝国理工学院、苏黎世联邦理工学院等等.在科研和工业领域,Nanoscribe的系列3D打印设备帮助推动着诸如超材料,微纳机器人,再生医学工程,微纳光学,微流道,微机电系统,生命科学,快速原型制作,批量系列生产,晶圆级微纳加工,微纳力学等等领域的发展!

  主要特征:*纳米尺度打印:在任意空间方向上的特征尺度控制,可达100nm*超快体素控制和100nm处理网格的高速3D微纳加工*先进的振镜轨道控制保证的快扫描速度下的轨迹准确度*自动化自校准路径保证的高精度激光能量控制及定位*可达6英寸基片和硅片的广泛选择*工业化批量生产:200个标准介观尺度结构通宵产量*保证实用性和体验感的触控屏和远程控制功能*快速原型制作,高精度,高设计自由度,简易明了的工作流程*工业验证的晶圆级批量生产*通用及专用的打印材料*兼容自主及第三方打印材料!

双光子无掩膜光刻系统生产商

   如果您想了解Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统更多信息,请致电 经理:13917994506,或者您直接到我们公司总部一起交流研讨,地址:上海市浦东新区自贸区美约路60号,我们期待您的致电或来访。

   关于双光子无掩膜光刻系统,作为一家主营产品为Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统的厂家,纳糯三维科技(上海)有限公司Nanoscribe在其他光学仪器这个行业中都享负盛名,在业界中也有一定的地位。

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